Operator
欢迎各位参加联电2012年第一季度财报电话会议。(接线员说明)请注意,本次会议正在通过互联网进行现场直播。会议结束后一小时内将提供网络直播回放。请访问我们的网站www.umc.com,进入投资者关系-投资者活动栏目。现在有请联电投资者关系主管黄博文先生。黄先生,您可以开始了。
Bowen Huang
感谢大家,欢迎参加联电2012年第一季度的电话会议。今天与我一同出席的有联电首席执行官孙世伟博士,以及首席财务官刘志腾先生。在本次会议中,我们可能会基于管理层当前的预期和信念做出前瞻性陈述。这些前瞻性陈述受到诸多风险和不确定性的影响,可能导致实际结果与预期存在重大差异,包括可能超出公司控制范围的风险。有关这些风险,请参考联电向美国证券交易委员会及台湾证券主管机关提交的文件。现在有请联电首席财务官刘志腾先生,为大家说明联电2012年第一季度的业务业绩。
Chitung Liu
谢谢博文。2012年第一季度,营收为新台币237.7亿元,较2011年第四季度的新台币244.3亿元环比下降2.7%,较2011年第一季度的新台币281.2亿元同比下降15.5%。本季度毛利率为19.1%,营业利润率为5.6%,净利润为新台币13.4亿元,每股普通股收益为新台币0.11元。以上是联电2012年第一季度业绩的简要总结。更多详细信息可在我们网站上发布的报告中查阅。现在我将电话转交给孙博士。
Shih
谢谢,Chitung。女士们、先生们,早上好、下午好、晚上好。在2012年第一季度,联电实现了盈利,营收超出我们的预期。晶圆出货量达到96.3万片8英寸等效晶圆,整体产能利用率达到71%。40纳米制程的营收贡献增至9%。对于第二季度,我们预计随着通信和消费类IC需求的增长,晶圆出货量将增加15%。这一预期增长再次确认了第一季度观察到的经济周期低谷,表明半导体行业经历了多季度的库存调整已经消退。联电在先进的28纳米制程技术上进展顺利。我们已成功向移动通信和计算客户交付了28纳米旗舰产品样品,并在上一季度完成了额外的产品流片。我们仍按计划在2012年下半年进入联电28纳米制程的量产阶段,同时为了有效利用现有的65纳米和90纳米产能,我们正在开发众多特殊技术,为未来提供更多样化和全面的客户代工解决方案。我们对半导体行业的长期发展持乐观态度。为巩固联电的盈利能力和业务增长,我们将继续遵循以客户为导向的代工解决方案理念,这包括通过内部技术研发来满足客户需求。此外,我们正在积极为28纳米技术建设充足的产能,并相信一旦开始量产,这一节点将提升联电的客户和产品平均售价及盈利能力。与此同时,董事会已提议股东批准2011年现金股息派发方案,为每股新台币0.5元。即使在ECS积极的产能扩张计划之后,该决议仍将维持60%的现金股息派发率。展望下一季度,我们将持续努力,及时管理客户不断增长的产能需求,并完成所有必要的28纳米量产准备工作,以最大化客户和联电的利益。现在,让我为您提供2012年第二季度的业绩指引。晶圆出货量预计增长约15%。以美元计价的晶圆平均售价将与上一季度持平。毛利率在20%低区间。产能利用率在80%低区间。通信和消费类细分市场将超过计算机细分市场。我的发言到此结束,我们现在可以开始提问。接线员,请开放线路,谢谢。
Operator
(接线员指示)您的第一个问题来自瑞士信贷的Randy Abrams。
Randy Abrams
是的,谢谢。晚上好。我想跟进您今天下午提到的一个点,您谈到28纳米制程的产能略高于5%,我认为您设定的28纳米营收目标是5%。能否谈谈基于您为28纳米设定的资本支出目标,您可以支持多少28纳米业务,以及今年是否有潜力吸引更多28纳米业务?
Shih
所以,我只能告诉您,我们正在提供足够的产能来支持年底达到5%的营收占比,至于具体的产能数字,目前我无法与您分享。
Randy Abrams
好的,明白了。关于40纳米制程,我想您提到由于所有节点都在爬升,40纳米在第二季度仍将保持约9%的销售占比。能否谈谈哪些应用可能会推动其增长,我记得您的目标是年底达到15%,40纳米制程有哪些类型的应用正在进入?
Shih
40纳米制程,正如我下午提到的,我们有超过80个流片覆盖所有3C应用,当然包括领先的通信硬盘驱动器、基带应用处理器,几乎涵盖所有领域。对于代工厂来说,将其发展成为一个重要节点是非常典型的。
Randy Abrams
好的。关于28纳米制程,我想了解您从客户那里获得的迹象让您有多大的信心,他们对提升28纳米制程产能的承诺程度如何?我猜听起来台积电将大幅增加资本支出,但您获得的迹象是否让您对业务前景充满信心,即使台积电在产能扩张方面变得更加积极?
Shih
我认为28纳米制程与客户的合作是我们严肃的长期合作。当然,我们联电必须赢得所有业务。因此,我们正在非常努力地与这些客户合作,但正如我之前提到的,这些合作并非像股市那样的短期交易。双方都非常认真地对待未来的投资,无论是他们还是我们。目前进展顺利,但这非常具有挑战性,我们正在非常努力地赢得他们的业务。
Randy Abrams
好的,我理解这一点。我最后一个问题是关于董事会,我认为他们更新了私募配售计划,我记得2年前您曾考虑寻找战略投资者。能否澄清一下,您是否有意进行股权融资,还是更多是为了筹集资金来支持资本支出?
Shih
嗯,这实际上更多是在寻找战略合作伙伴。所以,如果投资界认为这不是真正的战略合作,我们就不会进行。因此,这绝对不是出于筹集资金的目的。
Randy Abrams
好的。非常感谢各位。
Shih
谢谢。
Operator
您的下一个问题来自Susquehanna International的Mehdi Hosseini。
Mehdi Hosseini
是的。谢谢。我是Susquehanna International的Mehdi Hosseini。回到您关于28纳米客户参与度的问题,有不同类型的20纳米工艺技术,而量产产能要到下半年才能提供,您将如何说服客户您的工艺方案能够满足不同客户的需求,尤其是当客户正在寻找第二供应商时。
Shih
我在下午的电话会议中提到,过去一个季度我们已经向包括移动通信和移动计算在内的多个客户交付了数千个28纳米节点的功能性工程样品。
Mehdi Hosseini
好的。这些都是基于28纳米Poly SiON工艺的吗?
Shih
不同版本。另外我在下午也提到,我们还将拥有28纳米高K金属栅极工艺,而且是栅极后工艺,因为联电是少数提供高K金属栅极栅极后工艺的公司之一,我们有客户产品计划在12月左右采用高K金属栅极工艺进行流片。
Mehdi Hosseini
嗯,我想弄清楚的是,台湾的代工厂是基于栅极后工艺,而其他代工厂是基于栅极前28纳米工艺。那么,我们是否只是等待客户弄清楚它们的性能差异,还是需要关注台湾以外的竞争对手在产能大幅提升时可能带来的任何差异?
Shih
我认为栅极后工艺将是20纳米节点的唯一版本,这给了我们很好的优势。我们在28纳米已经习惯了栅极后工艺,然后可以轻松地将其迁移到20纳米产品中。至于栅极前工艺,它们有不同类别的客户,也做得不错。所有这些新的先进技术都需要很长时间来建立合作关系。只要足够努力,都会取得良好效果。
Mehdi Hosseini
好的。那么,这只是针对特定产品和特定客户进行微调,以确保良率合理且功能性能足够的问题。
Shih
当然。不同的选择。
Mehdi Hosseini
好的。那么,您将在何时加速20纳米的研发投入?
Shih
实际上,20纳米制程方面,今天我们有两个重要合作伙伴,除了这些,目前我们大部分的研发投入都集中在20纳米技术上。28纳米已经进入良率提升阶段,所以对我们来说已经相对成熟。我们正全力投入20纳米研发,正如我之前提到的,20纳米不仅是后栅极工艺,也是后高K金属栅工艺。此外,我们将采用慢速接触、双重图案化以及光源掩模优化技术。很多工作都在进行中,进展相当不错。
Mehdi Hosseini
你们是否会在明年下半年某个时间点拥有试产线?
Shih
不,12英寸20纳米产线已经存在。
Mehdi Hosseini
针对20纳米?好的,让我重新表述一下我的问题。
Shih
这是一条研发线,是的,这是一条研发线。
Mehdi Hosseini
产能是否会在明年下半年可用,还是更可能到2014年?
Shih
我们目前还没有制定相关计划,现阶段我们专注于技术开发。
Mehdi Hosseini
明白了,好的。非常感谢。
Shih
谢谢。
Operator
下一个问题来自Jefferies的Robert Lea。
Robert Lea
好的,谢谢回答我的问题。回到40纳米制程,我想确认一下今天下午电话会议中您所说的内容。您是说40纳米制程在第二季度占销售额的比例大致持平在9%左右吗?另外,您是否提供了关于40纳米制程到年底的更新指引?
Shih
我想我说的是,第二季度40纳米制程也会增长。
Robert Lea
好的,按绝对营收计算——
Shih
按绝对营收数字计算,但作为我们总营收的比例,由于第二季度整体营收增长强劲,所以目前40纳米占营收的比例我认为大致相同,我没有确切的数字。至于年底目标,内部目标仍然是占我们营收的15%,这仍然是我们的内部目标。
Robert Lea
好的,考虑到这个制程节点已经投产大约2年了,我想问一下,您是否看到客户对40纳米制程的需求有任何变化?特别是考虑到目前28纳米制程需求非常强劲。是否有迹象表明一些客户实际上考虑跳过40纳米节点,直接转向28纳米?您认为这是一个相关的因素吗?
Shih
是的,某些客户确实如此,这在每个制程节点都很典型。如果你是后来者,设计、投资和基础设施建设的成本都非常昂贵,所以如果你稍微晚一些,看到下一个节点更加成熟,特别是我们拥有28纳米Poly-SiON节点,工艺上与40纳米高性能工艺非常相似或一致。因此某些客户可能会选择跳过节点,这种情况正在发生,但这取决于应用领域,所以40纳米仍然会是一个非常强劲的节点。
Robert Lea
考虑到您在40纳米制程上投入的研发投资和资本支出,这是否会让您在财务上承受风险?或者是否有可能直接将其更新升级到28纳米?
Shih
实际上,正如我之前提到的,40纳米高性能工艺就像一个(听不清),我们只是将其延续到20纳米低功耗工艺,所以对我们来说这是一个持续的努力。至于产能安排,现在我们需要非常谨慎地优化客户和产品组合的最佳配置。您说得对,确实这项技术现在发展得非常快。
Robert Lea
当然,我可以问一个不同的问题吗?关于第一季度的毛利率,因为显然它们比最初预期的要好一些。我试图反向推算,似乎非折旧每片晶圆成本实际上比预期要好,您在这方面看到了相当大的成本节约。我想知道您是否同意这个观点?如果是的话,是什么推动了非折旧每片晶圆成本的下降?是某些措施还是产品组合相关?真正推动毛利率改善的因素是什么?
Chitung Liu
我认为这是多方面因素共同作用的结果。除了第一季度折旧费用较低外,非折旧成本也因我们内部的降本努力而下降。此外,第二季度产量大幅提升,分担了第一季度部分固定成本,这些也都对毛利率有所贡献,其中一些表现甚至优于最初预期。
Robert Lea
好的,那么产品组合在多大程度上也影响了毛利率?因为从通信业务占销售额的比例来看,显然已从约60%降至49%。我猜其中部分原因是季节性因素,但考虑到贵公司许多通信客户更多涉及功能手机领域,而该领域目前正面临相当大的利润压力。您是否同意通信销售额降低实际上对贵公司利润率有利这一观点?这一点是否相关?
Chitung Liu
不,我们认为这不相关。我认为(毛利率改善)主要还是源于我们综合的降本努力。
Robert Lea
好的,最后一个问题。关于董事会通过的潜在股权和债务发行决议,能否确认一下——这些是全新的计划和决议,还是对先前授权的更新?这仅仅是授权展期吗?
Chitung Liu
关于债券发行是新的计划。过去十多年来我们实际上并未发行过公司债券,而目前台湾新台币利率相当有吸引力。因此我们希望利用市场机会,填补今年的现金流缺口,并在一定程度上为明年的资本支出做准备。至于战略投资者,这主要是为了保持我们的选择开放性,并在年度股东大会上完成相关程序。联电多年来一直在与潜在战略投资者进行沟通,我们只会在大多数投资者认为或同意其具有战略价值的情况下,才会向战略投资者进行私募配售。因此,我们对潜在战略投资者的标准非常高。
Robert Lea
好的,如果可以的话再问最后一个问题。目前您对第三季度能见度如何?对第三季度有何看法?我们是否会看到正常的季节性表现?
Shih
目前我们尚未提供第三季度指引。但就我们的代工业务而言,历史上第三季度是代工旺季。不过关于具体指引,还是让我们等待下一季度吧。
Robert Lea
是的,因为从宏观层面来看,取决于您关注世界哪个地区,欧洲仍面临很大压力,中国显然在放缓,尽管美国已显示出一些改善迹象。所以整体环境似乎仍相当不确定,我只是想知道您的客户看到了什么情况,或者您对此有何看法?
Shih
您的评估是一致的,但我们的客户——再次强调,第三季度的数据我们将在下一季度给出指引。
Robert Lea
好的,非常感谢。
Shih
谢谢。
Operator
您的下一个问题来自高盛(Goldman Sachs)的Donald Lu。
Donald Lu
您好,孙博士和Chitung,晚上好。我的第一个问题是关于28纳米制程,您提到已经向客户交付了首批硅片,能否评论一下潜在的良率?另外,如果到年底您们能提升28纳米产能,您认为这部分收入何时会随着良率曲线改善等因素而成为利润增长点?这是我的第一个关于28纳米的问题。第二个关于28纳米的问题是,高通(Qualcomm)最近在上次财报中强调了28纳米的严重短缺,但也评论说正在尝试与代工合作伙伴稍微改变业务模式。那么,您是否看到与客户合作方式有任何变化?例如,在更多战略合作、更多技术、工艺转移等方面?谢谢。
Shih
关于第一个问题,28纳米良率,我不能给出具体数字,但我在下午提到过,我们的(听不清)相当不错,我们正在投入大量精力研究软件[ph],这意味着电压依赖性或我们的工艺器件和电路匹配类型的良率改进,我们正处于那个阶段。因此,我们正与客户密切合作,共同应对这些挑战。这是一个非常困难和具有挑战性的节点。您还提到了利润增长点,既然我们相信如果我们能及时开展业务,特别是在您提到的这个节点上,我们也听说存在额外的短缺,我们相信如果能够及时交付业务,预计这应该会成为利润增长点。关于第二个问题,我们不会对特定客户发表评论。但我们的28纳米合作非常令人兴奋。我们拥有两种技术,一种是Poly-SiON,第二种是High-K金属栅极。代工厂确实能够以足够的产能和服务限制来交付这些技术。因此,我们希望抓住这个绝佳机会,为客户提供最好的服务。
Donald Lu
好的,非常感谢。
Shih
谢谢。
Operator
(接线员指示)您的下一个问题来自RBC Capital Markets的Mahesh Sanganeria
Mahesh Sanganeria
非常感谢,我有一个关于28纳米和22纳米的问题,能否谈谈28纳米和20纳米需要多少双重曝光步骤,以及从40纳米到28纳米再到22纳米成本如何增加?我假设成本增长相当显著,能否以10,000片晶圆产能的资本成本来描述?
Shih
所以,对于20纳米双重曝光技术,所有金属层都需要双重曝光,所有金属层和后端层都需要。这意味着许多关键层或关键图案需要双重曝光,甚至活性层也需要双重曝光。所以很多层都需要双重曝光。就成本而言,我可以给你一个粗略的个人看法,从28纳米到20纳米的投资,资本支出大概会增加50%,这应该是一个粗略的数字。所以这是非常昂贵的。
Mahesh Sanganeria
好的,既然你说有那么多双重曝光,而且套刻精度要求当然会非常苛刻,这意味着会有很多返工,你认为能达到的良率是多少?我认为在这种复杂程度下,即使工艺成熟后,能达到的良率也会很低,所以我想知道,你认为在这种复杂的工艺技术上能获得投资回报吗?
Shih
关于良率,你提到的市场推动因素和套刻精度问题,这正是为什么需要从供应商那里购买最新的浸没式光刻机,它们的套刻精度要好得多。这些光刻机就是专门为双重曝光目的而生产的。至于投资,每个人都需要在合理利润下开展业务,所以供应链中我们如何分配利润和分担负担,这绝对是一个行业共同面临的挑战。我同意你的看法,这是一个挑战。但我认为到我们达到那个阶段时,我们应该共同找到一些解决方案。
Mahesh Sanganeria
好的,非常感谢。
Shih
谢谢。
Operator
您的下一个问题是高盛Donald Lu的后续提问。
Donald Lu
您好,一个关于旧包装的后续问题,我想下午您可能提到旧包装今年可能会增加,能否给我们更多关于增加幅度以及将从研发、销售及行政费用等方面增加的信息?谢谢。
Chitung Liu
目前我们预计第二季度晶圆出货量将增长15%,我们确实预计相关的运营支出成本可能会与我们的营收增长大致同步增长。所以,占营收的百分比应该会保持在一定水平,但以绝对美元金额计算,我们确实预计会看到运营支出有所增长。
Donald Lu
好的,那么全年情况如何?这似乎越来越难以推进到20纳米,研发费用是否可能在接下来的12个月内增加?
Shih
很难评论长期趋势,但至少在可预见的近期,我们将努力将研发预算控制在特定范围内。
Donald Lu
好的,谢谢。
Operator
来自Susquehanna的Mehdi Hosseini有一个后续问题。
Mehdi Hosseini
是的。我只是想澄清一下你们的28纳米低功耗工艺。它是否仍然使用金属栅极?
Shih
低功耗方面,大多数低功耗——我们有不同版本的低功耗工艺。大多数低功耗工艺使用的是Poly-SiON。特定客户确实会选择我们High-k金属栅极的不同版本,但种类很多,不过大多数是Poly-SiON。
Mehdi Hosseini
好的。那么,配方的差异更多是在High-k金属栅极方面,但在低功耗Poly-SiON中,配方似乎较少。这样理解对吗?
Shih
不完全是这样。即使是Poly-SiON,我们也有很多变体。
Mehdi Hosseini
好的。明白了,明白了。谢谢。
Shih
是的,当然。
Operator
下一个问题来自Barclays的C.J. Muse。
C.J. Muse
是的,晚上好。感谢回答我的问题。我想再问一个关于28纳米的问题。考虑到28纳米Poly-SiON的良率与40纳米相当,我很好奇为什么行业在28纳米方面会出现短缺。是因为客户跳过40纳米直接采用28纳米,最初使用Poly-SiON,还是终端需求端(特别是手机领域)正在发生某种转变导致了这种变化?如果您能提供任何见解或想法,我将非常感激。
Shih
首先,Poly-SiON 28并不意味着良率与Poly-SiON 40一样好。它们的收缩率、不同挑战和要求都不同,这是首要区别。关于短缺问题,目前我确实无法发表太多评论。目前存在(听不清)问题。
C.J. Muse
好的,谢谢。
Shih
谢谢。
Operator
您的下一个问题来自瑞士信贷的Satya Kumar。
Satya Kumar
是的,您好,感谢回答我的问题。我想知道您能否提供2012年资本支出的细分情况,包括升级旧的65纳米产能、增加28纳米新产能,以及在20纳米上的投资?我们应该如何看待明年的资本支出结构?
Shih
是的,关于我们的资本支出,我认为超过20%用于产能转换。其他分配情况是,我们将97%用于12英寸产能,3%用于8英寸升级。
Satya Kumar
那么,在28纳米和20纳米之间的资本支出分配如何?
Shih
20纳米属于研发费用。它们大约占我们资本支出的6%或7%,我估计。
Satya Kumar
明白了。还有一个快速跟进问题,针对之前的一个问题,您提到双重图案化应用于所有金属层,并提到了一些细节。您能否量化具体有多少层?另外我想确认一下,这种双重图案化是针对20纳米而不是28纳米,对吗?
Shih
这仅适用于20纳米。28纳米没有双重图案化。
Satya Kumar
是的,那是多少层?
Shih
每个客户都有不同的宏观层数。所以,这取决于具体情况,是的,可能从5层到12层,6层到12层。
Satya Kumar
6到12层金属层还是6到12层双重图案化?
Shih
6到——这取决于客户的应用,也许有些客户使用6层,有些使用12层金属层。这只是一个例子,是的。
Satya Kumar
好的。明白了,谢谢。
Shih
谢谢。
Operator
我现在想把电话交还给管理层进行结束语。
Chitung Liu
感谢您今天参加我们的电话会议,再次感谢您的关注。如果您有任何其他问题,请随时直接联系我们。主持人,现在交还给您进行结束语。